2019年12月25日
在微電子行業中，對矽片進行擴散需要用到硼或者磷源，離子註入是8〃及以上尺寸矽片最常用的方式。液態或者氣態源廣泛用在均勻性要求不高的工藝中，而固態擴散源是壹種高要求擴散的優良的解決方案。
聖戈班從上世紀70年代開始開發固態源工藝，目前提供全方位的產品和技術支持。PDSR是Planar Diffusion Sources (平面擴散源）的商標。
PDS固態源在世界範圍內有非常多的商業量產的實績，在中國早期有非常多的工程師了解這個工藝。由於離子註入和液態氣態有非常多的從業者從而導致整個工藝為行業所熟悉，高端的會選用離子註入，低端的會選擇液態氣態。
目前由於以下三點，PDS固態源收到了越來越多的詢盤：
1、國家環保要求，液態氣態源的生產會面臨壹定的環保風險；
2、MEMS器件的生產擴張，高濃度擴散需要熱擴散工藝；
3、中高品位產品的需求增長。
PDS固態源的優勢
1、首先是均勻性良好，壹般使用者反饋片內和片間均勻性可以控制到1%~2%。且成品缺陷程度低；
2、其次是PDS固態源無毒無害，相較於液態或者氣態源，PDS的設備毒害防護要求很低。從液態或者氣態源改造為固態源僅需要修改氣路，添置專用石英舟等簡單改造即可使用；
3、使用固態源產生的參雜劑封閉在矽片周圍，不會附著在設備管道或者門上，易於設備清理和維護；
4、可以簡單通過擴散溫度，時間和氣流來控制需要的目標產品，不連續生產的時候也方便取出和保存；
5、通過工藝中間的膜厚測量可以預判生產品質；
6、跟離子註入相比，固態源壹次擴散壹個舟可以擴散25片，效率很高。
PDS固態源的適用性
1、PDS固態源目前可以做到的極限尺寸為8〃；
2、只能適用於水平爐管而不能用於垂直爐管；
3、原來液態氣態擴散路需要進行氣路改造才能使用，過程需要通氮氣；
4、需要專用的石英舟配合。